本標(biāo)準(zhǔn)共分15 章和1 個(gè)附錄，主要內(nèi)容包括： 總則，基本規(guī)定， γ 射線源的選擇及允許透照的公稱厚度范圍，球罐焊縫劃線和編號，標(biāo)記和膠片布置，像質(zhì)計(jì)放置， γ 射線源的放置位置，曝光時(shí)間的確定，無用射線和散射線的屏蔽，膠片處理，底片質(zhì)量， γ 射線防護(hù)及放射源管理，球罐鋼熔化焊對接接頭射線檢測質(zhì)量分級，檢測記錄、報(bào)告及底片保存，現(xiàn)場檢測質(zhì)量控制等。

GB-T50602-2010······1

1 總則······11

2 基本規(guī)定······12

2.1 單位和人員······12

2.2 γ射線探傷機(jī)······12

2.3 射線膠片······13

2.4 增感屏和像質(zhì)計(jì)選擇······13

2.5 觀片燈······14

2.6 密度計(jì)······14

2.7 檢測時(shí)機(jī)和表面狀態(tài)要求······14

3 γ射線源的選擇及允許透照的公稱厚度范圍······16

4 球罐焊縫劃線和編號······17

5 標(biāo)記和膠片布置······18

5.1 標(biāo)記······18

5.2 膠片布置······18

6 像質(zhì)計(jì)放置······19

7 γ射線源的放置位置······20

8 曝光時(shí)間的確定······21

9 無用射線和散射線的屏蔽······22

10 膠片處理······23

11 底片質(zhì)量······24

12 γ射線防護(hù)及放射源管理······25

13 球罐鋼熔化焊對接接頭射線檢測質(zhì)量分級······26

13.1 一般規(guī)定······26

13.2 圓形缺陷的分級評定······26

13.3 條形缺陷的分級評定······27

13.4 綜合評級······28

14 檢測記錄、報(bào)告及底片保存······29

15 現(xiàn)場檢測質(zhì)量控制······30

15.1 檢測流程控制······30

15.2 檢測過程監(jiān)督檢測······30

15.3 檢測儀器設(shè)備質(zhì)量控制······31

15.4 檢測材料質(zhì)量控制······31

15.5 射線底片與對接接頭質(zhì)量評定和質(zhì)量控制······32

15.6 檢測報(bào)告、檢測記錄質(zhì)量控制······32

附錄A 焊縫射線檢測報(bào)告格式······33

本標(biāo)準(zhǔn)用詞說明······35

引用標(biāo)準(zhǔn)名錄······36

附:條文說明······37

1 總則······41

2 基本規(guī)定······42

2.1 單位和人員······42

2.2 γ射線探傷機(jī)······42

2.3 射線膠片······42

2.4 增感屏和像質(zhì)計(jì)選擇······42

2.5 觀片燈······43

2.6 密度計(jì)······43

2.7 檢測時(shí)機(jī)和表面狀態(tài)要求······43

3 γ射線源的選擇及允許透照的公稱厚度范圍······44

4 球罐焊縫劃線和編號······46

5 標(biāo)記和膠片布置······47

5.1 標(biāo)記······47

6 像質(zhì)計(jì)放置······48

7 γ射線源的放置位置······49

8 曝光時(shí)間的確定······50

9 無用射線和散射線的屏蔽······51

10 膠片處理······52

11 底片質(zhì)量······53

12 γ射線防護(hù)及放射源管理······54

13 球罐鋼熔化焊對接接頭射線檢測質(zhì)量分級······55

13.1 一般規(guī)定······55

14 檢測記錄、報(bào)告及底片保存······56

15 現(xiàn)場檢測質(zhì)量控制······57

15.1 檢測流程控制······57

15.2 檢測過程監(jiān)督檢測······57

15.3 檢測儀器設(shè)備質(zhì)量控制······57

15.4 檢測材料質(zhì)量控制······57

15.5 射線底片與對接接頭質(zhì)量評定和質(zhì)量控制······58

15.6 檢測報(bào)告、檢測記錄質(zhì)量控制······58